นโยบายการจัดการความรู้ มหาวิทยาลัยสงขลานครินทร์ 1.ให้ใช้เครื่องมือการจัดการความรู้ผลักดัน คุณภาพคน และกระบวนทำงาน 2.ส่งเสริมการแลกเปลี่ยนประสบการณ์การทำงาน จากหน้างาน 3.ส่งเสริมให้มีเวทีเรียนรู้ร่วมกัน

Zenki
Ico64
นาย พรพจน์ หนูทอง
นักวิทยาศาสตร์
ศูนย์เครื่องมือวิทยาศาสตร์
เครือข่าย
สมาชิก · ติดตาม: 0 · ผู้ติดตาม: 2

อ่าน: 575
ความเห็น: 0

Carbon contamination บนพื้นผิววัสดุ

สวัสดีปีใหม่ พ.ศ. 2560 ปีระกา แด่สมาชิก Share.psu ทุกๆ ท่าน ครับ ขออำนาจคุณพระศรีรัตนตรัย จงอำนวยพรให้ทุกท่านและครอบครัวมีความสุข ตลอดปีใหม่ครับ

Carbon contamination ในที่นี้ผมกล่าวถึง คือ การเกิดการปนเปื้อนของสารคาร์บอนบนพื้นผิววัสดุในระหว่างการทดสอบตัวอย่างด้วยกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนชนิดส่องกราด (Scanning Electron Microscope, SEM) เกิดขึ้นจากอันตรกิริยาระหว่างลำแสงอิเล็กตรอน (small probes, high beam currents) ที่ตกกระทบบนพื้นผิวตัวอย่าง เร่งให้เนื้อสารในวัสดุปลดปล่อยคาร์บอนออกมาได้ โดยผลลัพธ์ที่เกิดขึ้นหลังจากอันตรกิริยา จะได้สารคาร์บอนเคลือบผิวหน้าวัสดุ สามารถมองเห็นได้ในระหว่างการทดสอบ มีลักษณะสีดำ ณ ตรงบริเวณ ที่ลำอิเล็กตรอนสแกนเสร็จสิ้นไป

Dark area หรือบริเวณคราบสีดำที่เกิดขึ้นนั้น ส่งผลโดยตรงต่อการทดสอบตัวอย่าง ลดการสะท้อนกลับของสัญญาณทั้งชนิด secondary electron, backscatter electron ร่วมทั้ง X-rays สำหรับการวิเคราะห์องค์ประกอบธาตุ ซึ่งนั่นหมายถึง ทั้งคุณภาพและปริมาณสัญญาณลดลง ทำให้การวิเคราะห์และถ่ายภาพตัวอย่างระดับ High resolution นั่นเป็นไปไม่ได้เลย ปัญหาดังกล่าวเราจะแก้ไขอย่างไร

ปัญหาดังกล่าวพบบ่อยและเกิดขึ้นง่ายในตัวอย่างประเภท Non-conductive materials ซึ่งส่วนใหญ่ก็คือวัสดุทางด้านชีววิทยา มีส่วนประกอบของเนื้อเยื่อเสียส่วนใหญ่ รวมถึงพอลิเมอร์ต่างๆ ตัวอย่างประเภทดังกล่าวจะเกิดการ Charging จะสังเกตเห็นได้ในระหว่างการทดสอบ มีลักษณะสีขาวสว่างเกิดขึ้น ณ ตรงบริเวณที่ลำอิเล็กตรอนกำลังสแกน มีสาเหตุมาจากเกิดการสะสมของอิเล็กตรอนในบริเวณนั้นเป็นปริมาณสูง เพราะตัวอย่างไม่มีสมบัติการนำไฟฟ้านั่นเอง

 

Dark area ที่เกิดขึ้นแล้วนั้น จะเกิดขึ้นเพียงชั่วคราวหรือถาวร ซึ่งพบว่า รอยดำที่เกิดขึ้นบนพื้นผิววัสดุบริเวณใดแล้ว จะติดฝังแน่นเช่นเดียวกับคราบสกปรกบนเนื้อผ้าที่เราเคยดูในหนังโฆษณา และเช่นเดียวกันกับหนังโฆษณาที่คราบเหล่านั้นสามารถกำจัดออกได้ด้วยผงซักฟอกทั้งชนิดผสมลงน้ำและป้ายลงบนเนื้อผ้า เพียงแต่เราไม่ได้นำตัวอย่างวัสดุไปขัดซักถูด้วยน้ำยาเหล่านั้น ซึ่งปัจจุบันเราใช้วิธีการทำความสะอาดผิวหน้าของวัสดุด้วยเครื่อง plasma ion cleaner อันทันสมัยและสะดวกเร็วภายในขั้นตอนเดียว

หลักการทำงานของ plasma ion cleaner นั้นมีหลักการเช่นเดียวกับการเคลือบผิวตัวอย่างด้วยโลหะเทคนิค Sputtering ในเครื่อง sputter coater ที่ใช้สำหรับเตรียมตัวอย่าง SEM โดยอิเล็กตรอนอิสระซึ่งแตกตัวจากการกระตุ้นด้วยสนามแม่เหล็กไฟฟ้า เคลื่อนที่ชนกับโมเลกุลก๊าซอาร์กอนและออกซิเจนที่ใช้สร้างพลาสมา พลาสมาไอออนที่เกิดขึ้นจะเข้าไปทำปฏิกิริยาเคมีกับสารออร์แกนิกไฮโดรคาร์บอนที่เคลือบบนพื้นผิวตัวอย่าง เพื่อสลายเคลือบคาร์บอนออกไป

Happy New Year 2017

หมวดหมู่บันทึก: พัฒนางานประจำ
สัญญาอนุญาต: ซีซี: แสดงที่มา-ไม่ใช้เพื่อการค้า-อนุญาตแบบเดียวกัน Cc-by-nc-sa
สร้าง: 01 มกราคม 2560 11:42 แก้ไข: 01 มกราคม 2560 11:42 [ แจ้งไม่เหมาะสม ]
ดอกไม้
สมาชิกที่ให้กำลังใจ: Ico24 คนธรรมดา, Ico24 ดำขำ, และ Ico24 โอ๋-อโณ.
สมาชิกที่ให้กำลังใจ
 
Facebook
Twitter
Google

บันทึกอื่นๆ

ความเห็น

ไม่มีความเห็น

ร่วมแสดงความเห็นในหน้านี้

ชื่อ:
อีเมล:
IP แอดเดรส: 18.234.88.196
ข้อความ:  
เรียกเครื่องมือจัดการข้อความ
   
ยกเลิก หรือ